優れたパフォーマンスのマニホールドの設計および製造により流体フローを最適化し、圧力低下、機械的外乱、振動を抑制
90%
流体フローに起因する外乱力の低減を実証
20以上
パーツのアセンブリから信頼性のある単一のモノリシックパーツへ

流体フローを最適化し、圧力低下、機械的外乱、振動を抑制

金属積層造形の利点

  • 設計柔軟性「形状を超える機能」

    積層造形により、パーツを一体化して必要な重量とスペースの要件を削減しながら、乱流や圧力変動を低減する複雑な自由形状チャネルのマニホールドを最適な状態で設計し、迅速に反復処理し、製造することが可能になります。
  • 3DXpert における半導体 DMP マニホールド
  • 3d systems laserform ti gr5 (a) dmp hydraulic manifold gf post machined alternate
  • クリーンルーム環境向けの高い品質と精度

    高い材料品質と、酸素レベルが極めて低くく安定した不活性ガスの中で生産された高いパーツ精度に、最適な粒子清浄度を実現する独自の処理を組み合わせています。これにより、クリーンルーム要件を満たし、半導体設備での使用に適した金属パーツが得られます。
  • 3D プリンターの隣に立っている人
  • パフォーマンスと生産性

    流体フローに起因する外乱力を 90% 低減したことにより、システム振動が低減され、精度が 1~2 nm 改善しました。機械の速度と稼働時間の向上により、ウエーハ処理数とライフサイクル全体の価値が向上します。 また、積層造形では、パーツ数およびアセンブリ数を低減した、構造的に最適化されたマニホールドが得られます。モノリシックパーツで複数パーツのアセンブリを置き換えることにより、信頼性を向上させ、製造歩留まりを改善し、人件費を削減します。

流体フロー性能の問題を解決

  • 流体フローの外乱を低減

    半導体設備のパフォーマンスはマニホールドに依存し、マニホールドには最適な状態で設計され製造された流体チャネルが必要です。従来の製造方法ではフローが急峻になる角部や停滞する部分があり、乱流や圧力低下の増大につながっています。

  • 重量と体積の最小化

    従来の製造方法では、フライス加工や機械加工の幾何学的な制限によってマニホールドの設計の重量と体積が過剰になり、システム性能に悪影響を及ぼします。

  • 接続部における流体漏れを解消

    切削型製造の幾何学的な制限によりマニホールドには一般に組み立てプロセスが必要になり、その接続部が故障や漏れの原因になります。

  • 3d systems laserform ti gr5 (a) dmp hydraulic manifold gf post machined alternate

    Wilting 社、金属積層造形を利用して半導体設備を改良

    オランダに拠点を置く製造メーカーである Wilting 社が、先進的な金属積層造形の専門知識を社内に取り入れ、半導体設備のパフォーマンスと生産性を向上させた様子をご確認ください。
  • 3D プリントされた部品

    CERN LHCb、粒子検出性能を改善

    CERN 社は、3D Systems の金属アディティブマニュファクチュアリングテクノロジーを使用して、大型ハドロン衝突型加速器の検出器内部で −40º に達する、信頼性と気密性が高い特注の冷却バーを開発および生産しています。

リソース

  • 3D Systems 半導体マニホールドバナー

    積層造形による流体マニホールド最適化

    積層造形によって、組立作業をなくし、過剰な重量を低減し、より有機的な形状を生産可能にすることで、従来の流体マニホールド製造の問題点を解決する方法をご覧ください。

  • 半導体 eBook のカバー

    金属積層造形の迅速な導入と拡張

    この eBook では、3D Systems の数十年にわたる経験と専門知識がどのように金属 AM の統合を支援し、半導体資本設備メーカーおよびサプライヤーのパフォーマンス、生産性、信頼性の向上を実現するのかご紹介します。

  • ロボットアーム上にあるシリコンウエーハおよび超小型回路

    半導体資本設備向けの積層造形

    3D Systems の金属アディティブマニュファクチャリングが、半導体資本設備メーカーおよびサプライヤが性能、生産性、信頼性を向上させるために必要な能力をどのように提供できるかをご覧ください。    

その他の半導体のアプリケーション

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